به گزارش خبرگزاری مهر، مهندس جلیل خواجه‌پور مجری طرح، ضخامت سیلیکون نانومتخلخل به دست آمده را کمتر از 10 میکرون ذکر کرد و گفت: مرسوم ترین روش ساخت لایه سیلیکون نانو متخلخل استفاده از روش "H الکتروشیمیایی" سیلیکون در حضور اسید هیدروفلوریک است. برای این منظور ابتدا باید سیلیکون از ویفر اصلی به اندازه دلخواه بریده شود و در ادامه با استفاده از روشهای متعدد، سطح سیلیکون آماده سازی شود.
وی ادامه داد: برای پاک سازی سطح سیلیکون از آلودگیهای احتمالی، نمونه ultrasound (فرا صوت) شده و در کوره و در حضور اتمسفر خاص تابکاری می‌شود. پس از آماده سازی لایه بلافاصله در سلولی که برای همین منظور طراحی و ساخته شده است، در حضور اسید هیدروفلوریک و مواد سورفکتانت تحت H الکتروشیمیایی قرار می‌گیرد. این لایه به علت سطح بسیار زیاد در برابر هوازدگی بسیار حساس است و بسیاری از خواص آن تغییر می‌کند از این رو لایه را باید در محیط خنثی نگهداری کرد.
خواجه یا بیان اینکه به لحاظ داشتن خاصیت لومینسانس (روشنایی) در ساخت حسگرهای نوری کاربرد بسیاری دارند، اظهار داشت: در دنیا از سیلیکون متخلخل استفاده های فراوانی می‌شود که سهم بسیاری از آن به صنایع الکترونیک اختصاص دارد. از این لایه در فناوری ساخت تراشه های الکترونیکی تحت عناوین SOI و FIPOS استفاده می‌شود. علاوه بر این می‌توان به کاربری این ماده در ساخت نمایشگرهای تابش میدانی، آینه‌های دی الکتریک (مانند آیینه براگ)، ساختارهای فابری- پرو، Photo detector، ساخت مدارهای اپتوالکترونی و ... اشاره کرد. در ایران به سبب ضعف بنیادی در صنایع ساخت قطعات الکترونیکی این استفاده محدودتر است و شاید مهیاترین شاخه عملیاتی برای این لایه‌ها در کشور حسگرها باشند.
مجری طرح خاطر نشان کرد: با استفاده از لایه سیلیکون نانومتخلخل ساخته شده در این پروژه می‌توان با صرف هزینه‌هایی بسیار پایین حسگرهایی با دقت بسیار بالا و در غلظت های بسیار اندک (در حدود ppb) برای اندازه‌گیری عوامل خونی، عوامل شیمیایی گیاهی و آلودگی های زیست‌محیطی به دست آورد.
جزئیات این پژوهش در مجله Nanotechnology (جلد 19، صفحه295701، سال 2008) چاپ شده است.
نظر شما